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Plasma 2000 全譜ICP光譜儀

儀器名稱:Plasma 2000 全譜ICP

儀器型號:Plasma 2000

制  造  商:鋼研納克

原  產  地:中國北京

聯系電話:400 6218 010

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產品詳情

儀器類型全譜型ICP觀測方式單向觀測矩管放置垂直放置
震蕩頻率27.12MHz頻率穩定性優于0.01%功率穩定性優于0.1%
光源類型固態光源光柵類型中階梯光柵檢測器類型背照式CCD
儀器尺寸121cm*74cm*80cm儀器重量200kg

      鋼研納克ICP光譜儀,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位。央企品牌,上市公司,品質之選!歡迎來電洽談。聯系電話:400-6218-010

儀器介紹

      Plasma2000型電感耦合等離子體發射光譜儀采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集。儀器穩定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。

      Plasma2000型電感耦合等離子體發射光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、醫藥衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、農業、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。可以快速、準確地檢測從微量到常量約70種元素。

 

1、 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,徑向觀測,具有穩健的檢測能力。

2、 高效穩定的固態射頻發生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運行及優異的長期穩定性。

3、 高速面陣CCD采集技術,單次曝光獲取全部譜線信息,真正實現“全譜直讀”。

4、 功能強大的軟件系統,簡化分析方法的開發過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

技術參數

1. 光學系統:中階梯二維分光光學系統,焦距400mm

2. 譜線范圍:165nm~950nm,光學分辨率:0.007nm(200nm處)

3. 光柵規格:中階梯光柵,52.67刻線/毫米,尺寸:100mm x 50mm

4. 晶體管固態射頻發生器,小巧高效

5. 27.12MHz頻率提高信噪比,改善了檢出限

6. 自動匹配調節

7. 全組裝式炬管,降低了維護成本

8. 計算機控制可變速12滾軸四通道蠕動泵,具有快速清洗功能

9. 實驗數據穩定性良好:重復性 RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);穩定性:RSD ≤1.0%(大于3小時)


儀器特點

穩健高效的全固態光源

      全固態射頻發生器,體積小、效率高,全自動負載匹配,速度快、精度高,能適應各種復雜基體樣品及揮發性有機溶劑的測試,具有優異的長期穩定性。

      垂直炬管的設計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。

      簡潔的炬管安裝定位設計,快速定位,精確的位置重現。 

      實時監控儀器運行參數,高性能CAN工業現場總線,保障通訊高效可靠。

 

精密的光學系統

      中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,使用超純SiO2棱鏡,高光路傳輸效率,保證了深紫外區的元素測量。

      優化的光學設計,采用非球面光學元件,改善成像質量,提高光譜采集效率。

      光室多點充氣技術,縮短光室充氣時間,提高紫外光譜靈敏度及穩定性,開機即可測量。

      光室氣路獨立,可充氮氣或氬氣。

      包圍式立體控溫系統,保障光學系統長期穩定無漂移。

 

進樣系統

      儀器配備系列經過優化的進樣系統,可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫氟酸等樣品的測試。

      使用一體式炬管,易于維護,轉換快速,使用成本低。

      使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,流量連續可調,保障測試性能長期穩定。

      4通道12滾輪蠕動泵,泵速連續可調,確保樣品導入穩定性。

   

檢測器

      大面積背照式CCD檢測器, 全譜段響應,高紫外量子化效率,抗飽和溢出

      具有極寬的動態范圍和極快的信號處理速度

      一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,獲得更為快速、準確的分析結果

      大靶面尺寸,百萬級像素,單像素面積24μm X 24μm

      三級半導體制冷,制冷溫度低于-35℃,具有更低的噪聲和更好的穩定性

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